主要用于半导体、芯片、3D封装的电镀工艺。
主要用于玻璃基板电镀工艺
产品规格:min:300*300mm max:600*600mm
传动方式:龙门式
电镀均匀性:≥90%
铜柱:常规Φ80~120μm/H120~240μm 高规Φ15~30μm/H50~100μm 特规Φ7~10μm/H15~20μm
最小线路:L/S:10μm/10μm L/S:7μm/7μm
主要用于大板扇出封装电镀工艺
产品规格:min:300*300mm max:600*600mm
传动方式:龙门式
电镀均匀性:≥90%
铜柱:常规Φ80~120μm/H120~240μm 高规Φ15~30μm/H50~100μm 特规Φ7~10μm/H15~20μm
最小线路:L/S:10μm/10μm L/S:7μm/7μm
主要用于晶圆表面电镀铜、表面化学镍靶金工艺
产品类型:晶圆 产品规格:4?、8?、12?
传动方式:龙门式
设备功能:电镀铜、电镀镍钯金、化学镍钯金